Obleas de 450 mm a partir del año 2012 Blog informatico de sergio

Obleas de 450 mm a partir del año 2012

sergio01 12-06-2008 GTM 1 @ 16:21

Obleas de 450 mm a partir del año 2012
Las compañías establecen una fecha común para fijar su preparación para la puesta en marcha de un proyecto piloto con obleas de 450mm.

Diario Ti: Intel Corporation, Samsung Electronics y TSMC han anunciado un acuerdo basado en la necesidad de colaboración de todo el sector para establecer una fecha para la transición a procesos de fabricación con obleas más grandes de 450 mm a partir del año 2012. Esta transición a obleas de mayor tamaño va a permitir el crecimiento permanente del sector de los semiconductores, ayudando a mantener una estructura de costes razonable para el desarrollo y la fabricación de circuitos integrados en el futuro.

Las compañías van a cooperar con el sector de los semiconductores para asegurar que se desarrollan y prueban todos los componentes, las infraestructuras y las prestaciones necesarias para la puesta en marcha de un proyecto piloto en la fecha estimada.

Históricamente, la fabricación con obleas de mayor tamaño permite aumentar la capacidad para producir semiconductores a un coste menor. El área total de la superficie de silicio de una oblea de 450mm y la cantidad de oblea (die) impresa (los procesadores informáticos individuales, por ejemplo) es más del doble de lo que ofrece una oblea de 300mm. Las obleas de mayor tamaño ayudan a reducir los costes de producción por procesador.

Intel, Samsung y TSMC han indicado que el sector de los semiconductores puede mejorar los rendimientos de las inversiones realizadas, además de reducir en gran medida los costes de I+D con obleas de 450mm mediante la aplicación de unos estándares similares, racionalizando los cambios que se produzcan en la infraestructura y automatización desde el empleo de las obleas de 300 mm, y colaborando para establecer una fecha de preparación común. Las compañías también han acordado que un punto de vista cooperativo puede servir de ayuda para minimizar los riesgos y los costes de transición.

Hasta la fecha, la migración a obleas de mayor tamaño ha comenzado tradicionalmente unos 10 años después de la última transición. Siguiendo este esquema, el sector comenzó la transición a obleas de 300mm en el año 2001, una década después de la puesta en marcha de las instalaciones para fabricación (conocidas como “fabs") que utilizaban obleas de 200 mm en el año 1991.

Siguiendo el ritmo de crecimiento histórico, Intel, Samsung y TSMC han acordado que el año 2012 puede ser una fecha apropiada para comenzar la transición al proceso de fabricación con obleas de 450mm. Dada la complejidad a la hora de integrar todos los componentes para una transición de este tamaño, las compañías reconocen que la evaluación permanente de la fecha acordada será esencial para garantizar la preparación de todo el sector.

Las tres compañías van a seguir colaborando para trabajar con el International Sematech (ISMI), debido a su papel clave como coordinador de los esfuerzos del sector para el suministro de obleas de 450mm, además de su participación en el establecimiento de estándares y en el desarrollo de prestaciones para facilitar bancos de pruebas para equipos.

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